伯恩斯坦-全球半导体行业：阿斯麦（ASML）——DRAM技术变革引发光刻业务逆风 DRAM行业正经历两轮关键技术迁移：首先是晶体 ...

近日，阿斯麦(ASML.US)召开了2025财年第三季度财报电话会。公司预计2026年总净销售额不会低于2025年。EUV业务受益于先进DRAM和尖端逻辑芯片的需求，预计将实现增长。DUV业务受中国客户动态影响，预计将相较2025年下滑。 阿斯麦表示，AI带来的积极势头正在向更多 ...

ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配备 0.55 NA 镜头，实现 8 纳米分辨率——而当前 Low-NA EUV 工具的分辨率仅为 13 纳米——使得单次曝光下晶体管尺寸缩小 1.7 倍，晶体管密度提高 2.9 倍。虽然 Low-NA 工具可以通过昂贵的多重图形匹配来达到这一效果，但 High-NA EUV 简化了光刻 ...

荷兰晶片制造设备巨擘艾司摩尔（ASML）与DRAM龙头三星电子12日签署合作备忘录，双方将共同出资1兆韩元（约7.6亿美元）在韩国打造晶片厂，开发先进半导体加工技术。 此外，ASML亦与全球第二大DRAM制造商SK海力士签订合作协议，开发节能晶片制造技术。 ASML透过 ...

1月4日消息，ASML于当地时间1月3日宣布，其位于德国柏林的工厂于1月2日晚间发生火灾，大火在夜间被扑灭，无人受伤，目前就损害或是否会影响其生产计划发表声明还为时过早，ASML计划进行几天的调查后再做出全面评估。 据悉，ASML柏林工厂为ASML的光刻系统 ...

IT之家 8 月 8 日消息，比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布，在其与 ASML 合作的 High NA EUV 光刻实验室首次成功利用 High NA EUV 光刻机曝光了逻辑和 DRAM 的图案结构。 在逻辑图案方面，imec 成功图案化了单次曝光随机逻辑机构，实现了 9.5nm 密集金属线（IT之 ...

【热点速读】 1、美国最新禁令解读：重新定义DRAM出口管制 2、三星电子再次将存储和代工“制造与技术”分开 3、ASML：最新出口限制的影响未超出2025年预期范围 4、南亚科技结束两连跌，11月营收环比回涨0.23%，Q4环比持平或稍好 5、机构：Q3全球半导体设备出货 ...

除了英特尔之外，台积电、三星、SK海力士等头部晶圆厂商均在积极抢购ASML新一代的高数值孔径 High-NA EUV光刻机。据悉，ASML最新的High-NA EUV光刻机设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间，当前热销的EUV光刻机单价则为1.5亿-2亿美元。 在3纳米芯片逐步量产之后，2 ...

China’s semiconductor manufacturers are upgrading their advanced chipmaking equipment in ways that bypass global export controls, as the country seeks to rival the US in developing artificial ...